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ICP-OES與ICP-MS射頻發生器原理、構造與維護

  信息來源:  TIME:2024-11-4  瀏覽:

1. 基本概念等離子體:高電離度的氣體(電離度大于0.1%),且呈電中性(正負電荷相等)。ICP(電感耦合等離子體):高溫常壓氣體(穩定達到10000K),通過RF發生器使電感線圈產生高頻振蕩磁場,將能量耦合到氬氣中,使Ar電離。ICP呈電中性,含有大量亞穩態Ar原子。

 

2. ICP等離子體的形成

ICP等離子體的形成過程包括以下步驟:

1). 高頻電流產生電磁場:通過電磁感應,在被電離的氣體中產生感應電流,加熱氣體,將電能轉換為氣體分子、電子、離子的動能。

2). 電火花點火:產生自由電子,引發雪崩電離,形成等離子體。

3). 穩定的高頻電源和氣流供給:保持等離子體的穩定燃燒。


 3. ICP-OES與ICP-MS的儀器結構

ICP-OES的儀器結構:主要包括進樣系統、ICP光源、光學系統和檢測系統。

ICP-MS的儀器結構:主要包括進樣系統、ICP離子源、接口、四極桿質譜儀和檢測系統。


 4. 樣品被激發過程

樣品在ICP中的變化過程包括以下步驟:

1). 霧化:樣品溶液被霧化成氣溶膠。

2). 去溶:氣溶膠中的溶劑被去除。

3). 蒸發:樣品中的化合物被蒸發。

4). 原子化和離子化:樣品中的元素被原子化并進一步離子化。


 5. ICPOES與ICPMS對RF發生器的要求

- 共同點:

  - 點火容易、功率穩定。

  - 能量轉化效率高、皮實可靠。

  - 調諧快速、耐受基體能力強。

- ICPOES對ICP的特性要求:

  - 原子、離子合理配分(中檔功率1000-1300W)。

  - 適合大的樣品進樣量(2mL/min或更多)。

  - 高躍遷幾率,低背景發射。

- ICPMS對ICP的特性要求:

  - 一價離子高產率(中高功率1300-1600W)。

  - 控制離子動能(控制等離子體電位,氣體流量控制)。

  - 減低二次放電的可能。


 6. RF發生器的特性化設計

- 工作線圈(平板)的感抗選擇。

- 工作線圈(平板)的形狀設計。

- 頻率的選擇。


 7. RF發生器的原理與結構

電子管放大型RF發生器:

  - 工作線圈(workcoil)與并聯匹配電感(L3)、串聯箱體電感(L1)及大功率管的內部電容組成LC震蕩電路,震蕩頻率由電感、功率管電容及陽極寄生電容決定。

  - L2把陽極信號耦合采集并作為正反饋加到柵極,維持震蕩。

  - 功率輸出的大小由加載到陽極電壓控制。

自激型RF放大電路:

  - 把陽極信號采集作為正反饋加載到柵極,再被放大輸出,兩者的頻率完全一致,但相位相差180°。

  - 每個周期中只有1/3是有效輸出。

  - 匹配電感L3的作用是確保工作線圈隨負載變化時,震蕩電路的頻率在功率管的工作參數中。


 8. 電子管放大型RF發生器的優缺點優點:

  - 結構簡單,皮實可靠。

  - 不使用機械轉動的調諧電容。缺點:

  - 功率轉換效率差,功率管發熱高,需大氣流冷卻。

  - 功率管有壽命,需要定期更換。


 9. 固態放大RF發生器的原理與構造固態放大RF發生器:

  - 在電子管年代,調諧的目的是使陽極與柵極波形相位相差180°,對于固態RF發生器,其本質是高頻信號的來路與回路相位相反(相差180°)。

  - 在項圈兩側加相位相反的兩路RF,可以把電感線圈變成類似電阻結構,不再需要匹配電路,只要控制好功率即可。


 10.Perkinelmer對RF發生器的設計(舉例說明)

PlasmaLok接地方式:

  - 通過特殊的接地方式,提高了等離子體的穩定性和耐受基體的能力。平板等離子體:

  - 解決了線圈形狀對ICP的限制,提高了調諧速度和耐受復雜基體的能力。

LDMOS晶體管:

  - 使用橫向擴散金屬氧化物晶體管(LDMOS),提高了RF發生器的性能和可靠性。

自冷加感線圈LumiCoil:

  - 提升了散熱能力,通過磁性耦合激勵雜散射頻電流通過金屬表面,形成磁鏈結構,抑制線圈各匝間同軸射頻電流,有效避免射頻泄露。



ICP-OES和ICP-MS在痕量元素分析中具有廣泛的應用,RF發生器是其核心部件之一。通過合理的RF發生器設計和維護,可以顯著提高儀器的性能和可靠性,確保檢測結果的準確性和穩定性。Perkinelmer公司在RF發生器設計方面的創新貢獻,為提高ICP技術的應用效果提供了重要支持。




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